本词条缺少概述图，补充相关内容使词条更完整，还能快速升级，赶紧来编辑吧！- 中文名
- 掩模规则检查
- 外文名
- mask rule check
设计图形经过OPC处理后（post-OPC），在被发送到掩模生产厂之前，必须要做所谓的掩模规则检查（mask rule check，MRC）。MRC检查“post-OPC”数据，确认其中所有图形适合掩模版制备工艺。MRC中的规则是由掩模版厂提供的，OPC工程师将这些规则输入到MRC软件中。
MRC规则主要包括如下内容：
（1）对图形的最小线宽（minWidth），线间距（minSpace），做出规定；也可以对亚分辨率辅助图形（SRAF）的线宽和间距限定最小值。
（2）对图形拐角之间间距（corner-to-corner）的最小值做出规定；也可以对亚分辨率辅助图形（SRAF）与主图形之间的距离做出限定。
（3）对辅助图形的最小面积（minimun SRAF area）做出限定 [1]。
