荷蘭半導體設備大廠艾司摩爾（ASML-US）上周四（21 日）表示，第一套高數值孔徑極紫外光（High NA EUV）微影設備，已交貨給英特爾（INTC-US）。
這款最先進 EUV 曝光機每台價格超過 3 億美元，將幫助英特爾製造更小、更快的半導體。
ASML 在社群媒體 X 平台上張貼的圖片顯示，機器的某一部分裝在一個系上紅色絲帶的保護箱裡，正從荷蘭 Veldhoven 總部出發。
A decade of groundbreaking science and systems engineering deserves a bow! 🎀 We're excited and proud to ship our first High NA EUV system to @intel. ✈️🌎 pic.twitter.com/wtVn4fmq9D
— ASML (@ASMLcompany) December 21, 2023
ASML 透過聲明說：「我們感到興奮又驕傲，將把第一台 High NV EUV 曝光機交付給英特爾。」
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ASML 最強曝光機比卡車還大，有 4 大廠在排隊
ASML 是微影設備市場霸主，這台最強曝光機組裝後將比卡車還大，必須用 13 個貨櫃、250 個木盒子裝載，預定 2026 年或 2027 年應用在商業晶片製程上。
英特爾在 2022 年訂購 ASML 首台 High NV EUV 試用機，而包括台積電（2330-TW）、三星電子、SK 海力士和美光（MU-US），也都陸續訂購這款曝光機。ASML 曾在 11 月 30 日表示，預定今年年底前交付首批機台。
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＊本文經合作夥伴 鉅亨網 授權轉載，並同意 TechOrange 編寫導讀與修訂標題，原文標題為〈ASML：首台High NV EUV曝光機 已交貨給英特爾〉。首圖來源：shutterstock。
（責任編輯：廖紹伶）
