黑科技？台積電：全新A16製程晶片毋須用新一代EUV光刻機

外媒報道，台積電業務開發資深副總裁張曉強表示，該企未必需要在其A16製程技術中使用艾司摩爾(ASML)的下一代High-NA EUV(高數值孔徑極紫外光)光刻機設備；又指該製程正在開發，預計將於2027年推出。

A16製程的A為Angstrom(埃)，為1納米的10分之1的長度單位。

High-NA EUV光刻機預期將有助於將晶片設計縮小多達三分之二，但晶片製造商需要必須權衡成本問題。張曉強坦言：「我喜歡這項技術，但我不喜歡其價格」；目前每部High-NA EUV光刻機的成本預計將超過3.5億歐元，而ASML常規EUV光刻機的成本僅為為2億歐元。

日前有報道指，英特爾(Intel)將購入6至7部ASML的新型High-NA EUV光刻機設備，即已全包該機直到2025年上半年的產能；據報該設備每年的產能約5至6部，代表首批將全數出貨予英特爾。