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台積電（2330）主管14日透露，台積電A16先進製程節點不一定需要艾司摩爾（ASML）最新的先進晶片製造設備高數值孔徑極紫外光曝光機（High-NA EUV），原因是太貴了。彭博資訊揭露，這一部機器要價超過台幣百億元。
台積電業務開發資深副總經理暨副共同營運長張曉強14日在阿姆斯特丹一場技術研討會上表示：「價格非常高昂。」「我喜歡High-NA EUV的能力，但我不喜歡它的標價。」
彭博報導，ASML的這款新設備能夠用僅僅8奈米寬的線條壓印半導體，相較下，前一代機器的線條寬度則高出1.7倍。
售價方面，這款EUV一部售價達到3.5億歐元（3.8億美元，新台幣約122.6億元），重量等同於兩台空巴A320客機。
ASML是唯一生產用來生產最複雜半導體所需設備的業者，ASML產品的需求是半導體產業景氣的晴雨表。
英特爾已經採購了ASML這款最新的High-NA EUV設備，而且在去年12月底，第一台設備就已運往英特爾奧勒岡廠。
張曉強說，台積電所謂A16先進製程節點（預定2026年稍晚量產）不一定需要使用ASML的High NA EUV設備，而且可以繼續仰賴台積電已有的較舊款EUV設備，「我認為目前，我們現有的EUV能力應該有辦法支援了」。
張曉強表示，使用新的ASML技術，將取決於它在何處最具經濟效益，以及「我們能夠達成的技術平衡」。他不願透露台積電何時將從ASML採購High-NA EUV。
製造先進導體正面臨成本上升、技術更加複雜的局面。英特爾面臨的挑戰尤多，還大力推動進軍晶圓代工市場，想切入台積電稱霸的晶圓代工市場。英特爾周一（13日）宣布晶圓代工服務事業迎接新的總經理，這是該部門自2021年成立以來的第三位負責主管。
張曉強表示，營運晶圓廠的成本，包括營建、工具、電力和原物料「持續上漲」「這是整個產業面臨的集體挑戰。」
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